发明名称 剥离纸或剥离膜用有机硅组合物、剥离纸和剥离膜
摘要 本发明提供抑制剥离剂的迁移性、对残留粘接力、剥离力不会产生不良影响、给予具有耐暴露性的剥离剂被膜的加成反应固化型的剥离纸或剥离膜用有机硅组合物,和形成了该组合物的固化被膜的剥离纸和剥离膜。在加成反应固化型的有机硅组合物中配合选自在末端具有不饱和键的烯烃和二烯烃、具有在末端具有不饱和键的烯基的硅烷和二硅氧烷中的1种以上的化合物的特定量。
申请公布号 CN105385348A 申请公布日期 2016.03.09
申请号 CN201510552840.3 申请日期 2015.09.01
申请人 信越化学工业株式会社 发明人 山本谦儿
分类号 C09D183/07(2006.01)I;C09D183/05(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;B32B27/32(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I 主分类号 C09D183/07(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 石宝忠
主权项 加成反应固化型的剥离纸或剥离膜用有机硅组合物,其含有:(A)由下述通式(1)表示的、在1分子中具有至少2个烯基的有机聚硅氧烷:100质量份,<img file="FDA0000794526160000011.GIF" wi="1470" he="285" />式中,R<sup>1</sup>独立地为烯基,R<sup>2</sup>独立地为不含脂肪族不饱和键的未取代或者卤素原子或氰基取代的一价烃基,X<sup>1</sup>独立地为下述通式(2‑1)所示的基团,X<sup>2</sup>独立地为下述通式(2‑2)所示的基团,X<sup>3</sup>独立地为下述通式(2‑3)所示的基团,<img file="FDA0000794526160000012.GIF" wi="1403" he="1094" />X<sup>4</sup>各自独立地为下述通式(3‑1)所示的基团,X<sup>5</sup>各自独立地为下述通式(3‑2)所示的基团,X<sup>6</sup>各自独立地为下述通式(3‑3)所示的基团,<img file="FDA0000794526160000021.GIF" wi="1037" he="1162" />R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>如上所述,a1、a2、a11、a21、a31、a41、a51、a61各自独立地为0~3的整数,a3为正数,a4~a6、a12~a15、a22~a25、a32~a35、a42、a43、a52、a53、a62、a63为0或正数,对它们进行选择以使有机聚硅氧烷的25℃下的粘度为0.05Pa·s以上30质量%甲苯稀释粘度计70Pa·s以下的范围,(B)选自下述通式(4)所示的在末端具有不饱和键的碳数8~30的烯烃、下述通式(5)所示的在两末端具有不饱和键的碳数10~32的二烯烃、下述通式(6)所示的具有1~4个在末端具有不饱和键的碳数8~30的烯基的硅烷、和下述通式(7)所示的具有2~6个在末端具有不饱和键的碳数8~30的烯基的二硅氧烷中的1种以上的化合物:5~20质量份,CH<sub>2</sub>=CH‑R<sup>3</sup>‑H            (4)CH<sub>2</sub>=CH‑R<sup>3</sup>‑CH=CH<sub>2</sub>      (5)(CH<sub>2</sub>=CH‑R<sup>3</sup>)<sub>b1</sub>SiR<sup>4</sup><sub>4‑b1</sub>    (6)<img file="FDA0000794526160000022.GIF" wi="1249" he="208" />式中,R<sup>3</sup>各自独立地为碳数6~28的二价烃基,R<sup>4</sup>独立地为碳数1~10的一价烃基或烃氧基,b1为1~4的整数,b2独立地为1~3的整数,(C)由下述平均组成式(8)表示的、在1分子中具有至少2个与硅原子键合的氢原子的有机氢聚硅氧烷:(C)成分中的与硅原子键合的氢原子的摩尔数相当于(A)和(B)成分中的烯基和不饱和基的合计摩尔数的1~20倍的量,R<sup>2</sup><sub>c1</sub>H<sub>c2</sub>SiO<sub>(4‑c1‑c2)/2</sub>    (8)式中,R<sup>2</sup>独立地为不含脂肪族不饱和键的未取代或者卤素原子或氰基取代的一价烃基,c1为0.1~2的正数,c2为0.01~2的正数,c1+c2为3以下的正数,以使在1分子中具有2个以上的SiH基,25℃的粘度在0.005~10Pa·s的范围内的方式选择,(D)催化剂量的铂族金属系催化剂,(E)有机溶剂:0~100,000质量份。
地址 日本东京