发明名称 貴金属電極上でワイヤボンディング可能且つはんだ付け可能な表面の製造方法
摘要 本発明は、貴金属電極上でワイヤボンディング可能且つはんだ付け可能な表面の製造方法に関する。前記貴金属電極は、パラジウムまたはパラジウム合金層のシード層を、60〜90℃での無電解めっきによって堆積することによって活性化される。次に、前記シード層上に中間層が堆積され、次いでワイヤボンディング可能且つ/またははんだ付け可能な表面仕上げ層が前記中間層上に堆積される。この方法は、光電子素子、例えば発光ダイオード(LED)の製造において特に適している。
申请公布号 JP2016506449(A) 申请公布日期 2016.03.03
申请号 JP20150545726 申请日期 2013.11.14
申请人 アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツングAtotech Deutschland GmbH 发明人 アンドレアス ヴァルター
分类号 C23C18/52;C23C18/31;C23C18/34;C23C18/44;H01L21/60;H01L33/40;H01L33/62 主分类号 C23C18/52
代理机构 代理人
主权项
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