微晶材料光学表面的离子束超光滑加工方法

摘要

本发明公开了一种微晶材料光学表面的离子束超光滑加工方法，步骤包括：1)采用离子束抛光技术对微晶材料光学表面进行抛光加工，直至面形精度达到指定的面形精度制造要求；2)利用离子束确定性材料添加方法在微晶材料光学表面生成一层易于平滑加工的材料层，覆盖微晶材料光学表面在抛光加工后形成的颗粒状微结构；3)采用离子束抛光技术对已生成的易于平滑加工的材料层的微晶材料光学表面进行抛光加工，直至面形精度达到超光滑加工的要求。本发明能够避免离子束直接加工微晶材料产生的微结构使得高频粗糙度的恶化、解决微晶材料光学表面超高精度、超光滑表面加工的难题，具有加工面形精度高、加工效率高、易于实现的优点。

主权项

一种微晶材料光学表面的离子束超光滑加工方法，其特征在于步骤包括：1)采用离子束抛光技术对微晶材料光学表面进行抛光加工，直至微晶材料光学表面的面形精度达到指定的面形精度制造要求；2)利用离子束确定性材料添加方法在微晶材料光学表面生成一层易于平滑加工的材料层，使易于平滑加工的材料层覆盖微晶材料光学表面在抛光加工后形成的颗粒状微结构；3)采用离子束抛光技术对已生成的易于平滑加工的材料层的微晶材料光学表面进行抛光加工，直至已生成的易于平滑加工的材料层的微晶材料光学表面的面形精度达到超光滑加工的要求。