基板保持旋转装置、具有基板保持旋转装置的基板处理装置以及基板处理方法

摘要

基板处理装置(1)具有旋转台(7)、旋转驱动机构(3)、设置在旋转台(7)上的保持销(10)、用于覆盖基板(W)的下表面的保护盘(15)、使保护盘(15)从旋转台(7)浮起的磁浮起机构(41)。保护盘(15)能够在下位置与接近位置之间上下移动，该接近位置指，在下位置的上方，与基板的下表面接近的位置。磁浮起机构(41)具有保护盘侧永久磁铁(60)、被挡板(4)保持的环状的挡板侧永久磁铁(25)。在通过挡板驱动机构(5)使挡板(4)上升时，能够借助永久磁铁之间的磁排斥力使保护盘(15)从旋转台(7)浮起并保持在接近位置。

主权项

一种基板保持旋转装置，其中，具有：旋转台，能够围绕沿着铅垂方向的旋转轴线旋转，旋转驱动单元，使所述旋转台旋转，保持构件，以与所述旋转台一起围绕所述旋转轴线旋转的方式设置在所述旋转台上，从所述旋转台向上方延伸，该保持构件能够在保持位置与退避位置之间移动，该保持位置为，该保持构件将该基板水平保持为所述旋转台与基板在铅垂方向上分离的状态，所述退避位置指，从所述保持位置退避的位置，保护盘，具有包围所述保持构件的整周的开口，配置在所述旋转台与被所述保持构件保持的基板保持位置之间，该保护盘能够在下位置与接近位置之间相对于所述旋转台上下移动，所述接近位置指在下位置的上方，与被所述保持构件保持的基板的下表面接近的位置，该保护盘以与所述旋转台一起围绕所述旋转轴线旋转的方式安装在所述旋转台上，该保护盘比被所述保持构件保持的基板大，磁浮起机构，具有第一磁铁、第二磁铁、第一支撑构件和第一相对移动机构，所述第一磁铁安装在所述保护盘上，所述第二磁铁形成为与所述旋转轴线同轴的环状，且所述第二磁铁对所述第一磁铁施加排斥力，第一支撑构件以非旋转状态支撑所述第二磁铁，所述第一相对移动机构使所述第一支撑构件与所述旋转台相对移动来改变所述第一磁铁与所述第二磁铁之间的距离，所述磁浮起机构借助所述第一磁铁与所述第二磁铁之间的排斥力使所述保护盘从所述旋转台浮起，磁驱动机构，具有第一磁性体、第二磁性体、第二支撑构件和与所述第一相对移动机构不同的另外的第二相对移动机构，所述第一磁性体安装在所述保持构件，所述第二磁性体形成为与所述旋转轴线同轴的环状，在所述第二磁性体与所述第一磁性体之间产生磁力，所述第二支撑构件以非旋转状态支撑所述第二磁性体，所述第二相对移动机构使所述第二支撑构件与所述旋转台相对移动来改变所述第一磁性体与所述第二磁性体之间的距离，所述磁驱动机构借助所述第一磁性体与所述第二磁性体之间的磁力使所述保持构件保持在所述保持位置。