发明名称 | 薄膜厚度的测试方法和装置 | ||
摘要 | 本发明实施例公开了一种薄膜厚度的测试方法和装置,涉及测试领域,能够在保证测试精度的同时,降低测量薄膜的厚度的成本。该薄膜厚度的测试方法包括:将测试掩膜覆盖在基板的表面上,所述测试掩膜具有多个镂空;对所述覆盖有测试掩膜的基板进行溅射镀膜;移除所述测试掩膜,利用探针法进行测量。 | ||
申请公布号 | CN103278124B | 申请公布日期 | 2016.03.02 |
申请号 | CN201310173164.X | 申请日期 | 2013.05.10 |
申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 王灿 |
分类号 | G01B21/08(2006.01)I | 主分类号 | G01B21/08(2006.01)I |
代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
主权项 | 一种薄膜厚度的测试方法,其特征在于,包括:将测试掩膜覆盖在基板的表面上,所述测试掩膜具有多个镂空;所述将测试掩膜覆盖在基板的表面上包括:悬浮掩膜的底部和所述基板共同作用,使得所述测试掩膜覆盖在所述基板的表面上;对所述覆盖有测试掩膜的基板进行溅射镀膜;移除所述测试掩膜,利用探针法进行对镀膜的厚度进行测量。 | ||
地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |