发明名称 薄膜厚度的测试方法和装置
摘要 本发明实施例公开了一种薄膜厚度的测试方法和装置,涉及测试领域,能够在保证测试精度的同时,降低测量薄膜的厚度的成本。该薄膜厚度的测试方法包括:将测试掩膜覆盖在基板的表面上,所述测试掩膜具有多个镂空;对所述覆盖有测试掩膜的基板进行溅射镀膜;移除所述测试掩膜,利用探针法进行测量。
申请公布号 CN103278124B 申请公布日期 2016.03.02
申请号 CN201310173164.X 申请日期 2013.05.10
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 王灿
分类号 G01B21/08(2006.01)I 主分类号 G01B21/08(2006.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 申健
主权项 一种薄膜厚度的测试方法,其特征在于,包括:将测试掩膜覆盖在基板的表面上,所述测试掩膜具有多个镂空;所述将测试掩膜覆盖在基板的表面上包括:悬浮掩膜的底部和所述基板共同作用,使得所述测试掩膜覆盖在所述基板的表面上;对所述覆盖有测试掩膜的基板进行溅射镀膜;移除所述测试掩膜,利用探针法进行对镀膜的厚度进行测量。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
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