发明名称 MASK SHAPING DEVICE AND METHOD AND EXPOSURE DEVICE USING SAME
摘要 마스크 성형 장치 (100)로서, 상부 표면 (150) 및 하부 표면 (160) 을 구비한 흡착 장치 (110); 정위면 (210)을 구비한 정위장치 (200)를 포함하고, 상기 흡착 장치 (110)는 적어도 정위장치 (200)에 대해 수직 방향으로 운동할 수 있고, 흡착 장치 (110)의 상부 표면 (150)은 정위면 (210)을 향하고 정위면 (210)과 접합할 수 있고; 흡착 장치 (110)의 하부 표면 (160)은 정압 소스와 연결되는 적어도 하나의 정압 출구가 형성되어, 마스크 (700)을 흡착 시 지속적으로 흡착 장치 (110)의 하부 표면 (160) 및 마스크 (700) 사이로 정압 기류를 수송하는데 사용되고, 상기 정압 기류의 크기는 흡착 장치 (110)가 마스크 (700)를 흡착할 수 있는 상황 하에서 흡착 장치 (110)의 하부 표면 (160) 및 마스크 (700) 사이에 공기 부상 면 (140)을 형성되도록 제어하여, 마스크 (700)의 변형을 극복하고, 마스크 (700)가 노광 과정 중 비교적 양호한 평면도를 가지게 하여 비교적 용이하게 변형된 마스크 (700) 및 흡착 장치 (110) 사이에서 진공 및 공기 부상 면을 구축할 수 있게 한다.
申请公布号 KR20160022884(A) 申请公布日期 2016.03.02
申请号 KR20167001475 申请日期 2014.06.10
申请人 SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD. 发明人 WANG XINXIN;JIANG XUCHU;ZHU WENJING;WANG XIAOGANG
分类号 G03F7/20;H01L21/027;H01L21/033 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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