Precursor compositions and Method for forming a thin film using thereof

摘要

본 발명의 일 실시예에 따른 성막용 전구체 조성물은, 하기 <화학식 1>로 표시되는 유기금속 화합물을 포함한다. <화학식 1>상기 <화학식 1>에서 M은 주기율표상에서 4A족 또는 4B족에 속하는 금속원소 중에서 선택된 것이다.