| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erzeugen einer transparenten Elektrode eines optoelektronischen Bauelementes, folgende Verfahrensschritte aufweisend: Bereitstellen eines Substrats; Erzeugen einer strukturierten Metallschicht mittelbar oder unmittelbar auf dem Substrat; welches dadurch gekennzeichnet ist, dass in Verfahrensschritt B in einem Verfahrensschritt B1 eine Metallschicht mit einer Dicke im Bereich 2 nm bis 100 nm mittelbar oder unmittelbar auf das Substrat aufgebracht wird und in einem Verfahrensschritt B2 die Metallschicht an mehreren Entfernungsbereichen mittels Strahlungseinwirkung wieder entfernt wird. |
