发明名称 |
测量相机曝光时间的方法及装置 |
摘要 |
本发明提供了一种测量相机曝光时间的方法及装置。该方法包括:针对摆放在被测相机前成二维阵列的多个发光装置,按照不同的发光周期控制不同列或不同行的各发光装置依次发光和熄灭;接收被测相机所拍摄的经控制的发光装置阵列的图像;以及确定所述图像中的基准列或基准行发光装置,并基于所述基准列或基准行发光装置的发光周期计算被测相机的曝光时间,其中,所述基准列或基准行发光装置的各发光装置在所述图像中亮度最接近,或者,所述基准列或基准行发光装置在所述图像中处于发光状态的发光装置的数量不小于预定阈值。本发明提供的测量相机曝光时间的方法及装置可根据相机拍摄到的图像计算相机的曝光时间,不仅精度高而成本低且便于实现。 |
申请公布号 |
CN105357520A |
申请公布日期 |
2016.02.24 |
申请号 |
CN201510917155.6 |
申请日期 |
2015.12.10 |
申请人 |
北京旷视科技有限公司;北京小孔科技有限公司 |
发明人 |
范浩强;印奇 |
分类号 |
H04N17/00(2006.01)I |
主分类号 |
H04N17/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市磐华律师事务所 11336 |
代理人 |
董巍;高伟 |
主权项 |
一种测量相机曝光时间的方法,其特征在于,所述方法包括:针对摆放在被测相机前成二维阵列的多个发光装置,按照不同的发光周期控制不同列或不同行的各发光装置依次发光和熄灭;接收被测相机所拍摄的经控制的发光装置阵列的图像;以及确定所述图像中的基准列或基准行发光装置,并基于所述基准列或基准行发光装置的发光周期计算所述被测相机的曝光时间,其中,所述基准列或基准行发光装置的各发光装置在所述图像中亮度最接近,或者,所述基准列或基准行发光装置在所述图像中处于发光状态的发光装置的数量不小于预定阈值。 |
地址 |
100190 北京市海淀区科学院南路2号A座313 |