| 发明名称 | 一种锑化镓单晶抛光片腐蚀液 | ||
| 摘要 | 本申请公开了一种锑化镓单晶抛光片腐蚀液，该腐蚀液由溶剂、氧化剂、腐蚀剂和缓冲剂按设定比例混合而成，其中，溶剂为去离子水；氧化剂为硫酸；腐蚀剂为盐酸；缓冲剂为乙酸。本申请的腐蚀液能够有效去除单晶抛光片表面在前期加工中残留的颗粒及杂质。 | ||
| 申请公布号 | CN105349290A | 申请公布日期 | 2016.02.24 |
| 申请号 | CN201510820117.9 | 申请日期 | 2015.11.24 |
| 申请人 | 北京华进创威电子有限公司 | 发明人 | 刘彤;杨俊;刘京明;董志远;赵有文 |
| 分类号 | C11D7/60(2006.01)I;C11D7/08(2006.01)I;C11D7/26(2006.01)I | 主分类号 | C11D7/60(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 | 代理人 | 尹振启 |
| 主权项 | 一种锑化镓单晶抛光片腐蚀液，其特征在于，所述腐蚀液由溶剂、氧化剂、腐蚀剂和缓冲剂按设定比例混合而成，其中，所述溶剂为去离子水；所述氧化剂为硫酸；所述腐蚀剂为盐酸；所述缓冲剂为乙酸。 | ||
| 地址 | 101111 北京市大兴区经济技术开发区通惠干渠路17号院 | ||