发明名称 |
画素结构 |
摘要 |
画素结构,包括扫描线、资料线、主动元件、覆盖层以及反射画素电极。主动元件与扫描线以及资料线电性连接。覆盖层覆盖扫描线、资料线以及主动元件。反射画素电极配置于覆盖层上,并且与主动元件电性连接。反射画素电极包括第一区域与第二区域,第一区域内具有多个第一凸起结构,以及第二区域内具有一平坦表面,其中第一区域的面积占反射画素电极的总面积的50%至70%,且第二区域的面积占反射画素电极的总面积的30%至50%。
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申请公布号 |
TWI522717 |
申请公布日期 |
2016.02.21 |
申请号 |
TW102136238 |
申请日期 |
2013.10.07 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 |
发明人 |
陈彦良 |
分类号 |
G02F1/1368(2006.01);G02F1/1343(2006.01);G09F9/00(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/1368(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文;叶璟宗 |
主权项 |
一种画素结构,包括:一扫描线以及一资料线;一主动元件,与该扫描线以及该资料线电性连接;一覆盖层,覆盖该扫描线、该资料线以及该主动元件;以及一反射画素电极,配置于该覆盖层上,并且与该主动元件电性连接,该反射画素电极包括一第一区域与一第二区域,该第一区域内具有多个第一凸起结构,以及该第二区域内具有一平坦表面,其中该第一区域的面积占该反射画素电极的总面积的50%至70%,且该第二区域的面积占该反射画素电极的总面积的30%至50%。
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地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行二路1号 |