发明名称 |
Einstellen der Ladungsträgerlebensdauer in einem bipolaren Halbleiterbauelement |
摘要 |
Beschrieben wird ein Verfahren und ein Halbleiterbauelement. Das Verfahren umfasst das Implantieren von Rekombinationszentrumatomen über eine erste Oberfläche in einem Halbleiterkörper; und das Bewirken, dass die implantierten Rekombinationszentrumatome in einem ersten Diffusionsprozess in dem Halbleiterkörper diffundieren. |
申请公布号 |
DE102015112265(A1) |
申请公布日期 |
2016.02.18 |
申请号 |
DE201510112265 |
申请日期 |
2015.07.28 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
SCHMIDT, GERHARD;MILLONIG, HANS;HUMBEL, OLIVER;BARUSIC, MARIO;SCHUSTEREDER, WERNER;BAUER, JOSEF-GEORG |
分类号 |
H01L21/265;H01L21/331;H01L29/739 |
主分类号 |
H01L21/265 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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