lonenbearbeitungsvorrichtung

摘要

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Ionenbearbeitungsvorrichtung zum Emittieren eines Ionenstrahls auf eine Probe, um die Probe zu bearbeiten, die in der Lage ist, die Temperatur der Probe unabhängig von Verformungen und dergleichen der mit dem Ionenstrahl bestrahlten Probe mit hoher Genauigkeit zu steuern. Vorgeschlagen wird eine Ionenbearbeitungsvorrichtung mit einem Abschirmungshalteelement zum Halten einer Abschirmung zum Abschirmen der Probe gegen den Ionenstrahl, während ein Teil der Probe dem Ionenstrahl ausgesetzt ist; und/oder mit einem Verschiebemechanismus zum Verschieben der Oberfläche des Probentisches, die mit der Probe in Kontakt steht, entsprechend einer Verformung der Probe beim Bestrahlen mit dem Ionenstrahl, wobei der Verschiebemechanismus einen Temperatursteuermechanismus zum Steuern der Temperatur des Abschirmungshalteelements und/oder des Probentisches aufweist; und/oder mit ein Probenhalteelement zwischen der Abschirmung und der Probe, wobei sich das Probenhalteelement so verformt, daß es einer Verformung der Probe bei der Bestrahlung mit dem Ionenstrahl folgt.