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Verfahren zur Herstellung einer dotierten, leitfähigen und transparenten Metalloxid-Schicht auf einem Substrat mittels Sputtern in einem Durchlaufprozess, wobei das Substrat in einer Beschichtungskammer an einer Beschichtungsquelle mit einem keramischen oder metallischen Target in einer Transportrichtung vorbeibewegt und beschichtet wird, wobei die Beschichtung auf einem kalten Substrat erfolgt, welches während des Beschichtungsprozesses eine Substrattemperatur im Bereich von Raumtemperatur bis 180°C aufweist und die Schicht nach ihrer Abscheidung wärmebehandelt wird, dadurch gekennzeichnet, dass eine Egalisierung von prozessbedingten Inhomogenitäten der Verteilung der optischen und elektrischen Schichteigenschaften längs und quer bezogen auf die Transportrichtung des Substrats erfolgt, indem für festgestellte Inhomogenitäten eine zeitlich und flächig begrenzte, nur die Schicht betreffende Wärmebehandlung mittels impulsartigem Energieeintrag durch elektromagnetische Strahlung oder Teilchenbeschuss mit hoher Energiedichte auf einer Teilfläche des Substrats erfolgt, wobei als Maß für den Energieeintrag die Substrattemperatur verwendet wird, indem die Impulslänge und/oder die Energiedichte und/oder die Größe der Fläche des Energieeintrags so eingestellt wird, dass das Substrat nicht oder nicht über die für die Abscheidung der Schicht eingestellte Temperatur erwärmt wird. |
