发明名称 掺杂剂含量低的多晶硅块材
摘要 本发明涉及多晶硅块材,其中在表面上,硼的浓度为1至50ppta,磷的浓度为1至50ppta。
申请公布号 CN103213988B 申请公布日期 2016.02.17
申请号 CN201310027483.X 申请日期 2013.01.24
申请人 瓦克化学股份公司 发明人 H·沃赫纳;A·基林格;R·佩赫
分类号 C01B33/02(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I;G01N33/20(2006.01)I 主分类号 C01B33/02(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 李振东;过晓东
主权项 多晶硅块材,其中在表面上,硼的浓度为1至50ppta,磷的浓度为1至50ppta。
地址 德国慕尼黑