发明名称 一种基于激光氧化法的P型硅太阳能电池PN结结深测量方法
摘要 本发明涉及一种基于激光氧化法的P型硅太阳能电池PN结结深测量方法,利用激光能量高,局部加热效果好的特点,在纯氧环境下,对硅表面进行加热氧化,然后逐层去除氧化层,达到逐层剥离表层硅材料的目的;由于激光加热在纯氧环境下进行,形成的氧化物固定了表层的杂质,减少了表层杂质的挥发;并且本发明利用磷元素易在氧化层/硅界面富集的原理,针对通过热扩散所形成的扩散区表面浓度大,体内浓度小的特点,使得磷元素由于热作用而导致的杂质浓度降低的现象受到抑制,从而降低杂质产生再分布对测量精度的干扰。实验证明,本发明测深测量方法简单易行,测量精确,测量成本低。
申请公布号 CN103557827B 申请公布日期 2016.02.17
申请号 CN201310496422.8 申请日期 2013.10.21
申请人 南通大学 发明人 花国然;王强;徐影;邓洁;胡传志
分类号 G01B21/18(2006.01)I 主分类号 G01B21/18(2006.01)I
代理机构 南京同泽专利事务所(特殊普通合伙) 32245 代理人 石敏
主权项 基于激光氧化法的P型硅太阳能电池PN结结深测量方法,包括如下步骤:第1步、去除N‑P型硅片表面的氧化层;第2步、将所述硅片置于激光处理腔体中,并通入纯氧,腔体内纯氧的气压为1.05个大气压;第3步、利用脉冲型激光对硅片正面进行加热处理,使硅片的上表面层被氧化,每次执行本步骤时,采用的激光波长为980nm或1064nm,激光的脉冲频率为25‑35Hz,每平方厘米硅片上激光作用的时间为15‑25s;第4步、取出硅片,利用氢氟酸溶液去除硅片表面的氧化层;第5步、清洁干燥后,测量硅片最薄处的减薄深度,并利用四探针测量该处硅片表面电阻值,并记录数据;第6步、重复第2步‑第5步直到硅片表面电阻值与衬底的电阻相同,转至第7步;第7步、将样品电阻值最大的区域划分为4块,并分别在纯氧环境下利用波长为980nm或1064nm,脉冲频率为25‑35Hz的激光,进行每平方厘米硅片上5秒、10秒、15秒和20秒的加热处理,然后去除表面氧化层并依次利用四探针测试硅片这4块区域的表面电阻值,硅片表面电阻值突然变小处所对应的硅片减薄深度为PN结结深;第1次执行第3步时,激光加热硅片的面积为N*A;第2次执行第三步时,激光加热硅片的面积为(N‑1)*A,以此类推,第N次执行第三步时,激光加热硅片的面积为A,第i次激光加热区域在第i‑1次激光加热区域的范围内,其中,i=2,3,…, N,N的取值范围为10‑25。
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