发明名称 抗辐射防龋消炎口腔制剂
摘要 本发明属于口腔药物制剂技术领域,特别涉及一种多功能抗辐射防龋消炎的口腔药物制剂。其技术方案是:一种抗辐射防龋消炎口腔制剂,它包括按质量分数计,0.5%~5%的奥替普拉、0.3%~2%的重组人角质细胞生长因子、0.02%~0.2%的度米酚、0.02%~0.2%的百里酚,0.02%~0.5%的替硝唑;余量为助药物、清新剂、甜味剂、增塑剂、崩解剂、清凉剂、稳定剂等;可制成漱口水、浓缩喷雾液,速崩洗消片三种不同剂型。本发明针对电离辐射性口腔疾病的致病因素研发,满足具有携带方便、平时预防保障和战时应急救治等多方面需求。
申请公布号 CN105327337A 申请公布日期 2016.02.17
申请号 CN201510717026.2 申请日期 2015.10.30
申请人 中国人民解放军96617部队 发明人 李广文;李卉;张陈兵;曹思樟;王军
分类号 A61K38/18(2006.01)I;A61K9/20(2006.01)I;A61K9/12(2006.01)I;A61K9/08(2006.01)I;A61P1/02(2006.01)I;A61P31/04(2006.01)I;A61K31/05(2006.01)N;A61K31/14(2006.01)N;A61K31/4164(2006.01)N;A61K31/497(2006.01)N 主分类号 A61K38/18(2006.01)I
代理机构 中国人民解放军第二炮兵专利服务中心 11040 代理人 杜新瑜
主权项 一种抗辐射防龋消炎口腔制剂,其特征是:它包括奥替普拉、重组人角质细胞生长因子、度米酚、百里酚和替硝唑。
地址 646000 四川省泸州市116信箱