| 发明名称 | 反应腔室的清洗方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种反应腔室的清洗方法，其包括以下步骤：对反应腔室进行干法清洗，并随着清洗时间的增加，按预定规则调节反应腔室的腔室压强，以使其自预设的最高压强值下降至最低压强值，或者自预设的最低压强值上升至最高压强值。本发明提供的反应腔室的清洗方法，其不仅可以缩短清洗时间，而且还可以改善清洗效果，从而可以延长湿法清洗和维护的周期。 | ||
| 申请公布号 | CN105336643A | 申请公布日期 | 2016.02.17 |
| 申请号 | CN201410369481.3 | 申请日期 | 2014.07.30 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 王京;谢秋实 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 彭瑞欣;张天舒 |
| 主权项 | 一种反应腔室的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：对所述反应腔室进行干法清洗，并随着清洗时间的增加，按预定规则调节所述反应腔室的腔室压强，以使其自预设的最高压强值下降至最低压强值，或者自预设的最低压强值上升至最高压强值。 | ||
| 地址 | 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 | ||