发明名称 SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
摘要 트랜지스터 등의 반도체 소자를 통해 상층과 하층에 형성된 배선 층간의 양호한 접속을 가능하게 하고, 배선의 자유도를 향상시킨 반도체 장치 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적의 하나로 한다. 절연체로 된 기판 위에 제1 절연층과, 제1 절연층 위에 형성된 제1배선층과, 제1 절연층 위에 제1 배선층이 형성된 영역이 외의 영역에 형성된 제2의 절연층과, 제1 배선층 및 제2 절연층 위에 형성되어, 채널 형성 영역과 불순물 영역을 갖는 단결정 반도체층과, 단결정 반도체층의 채널 형성 영역 위에 게이트 절연층을 사이에 두고 형성된 게이트 전극과, 제1 배선층, 제2 절연층, 단결정 반도체층 및 게이트 전극을 덮도록 형성된 제3 절연층과, 제3 절연층 위에 형성된 제2 배선층을 설치하며, 제1 배선층과 단결정 반도체층의 불순물 영역이 접속하고, 제1 배선층과 제2 배선층이 전기적으로 접속한다.
申请公布号 KR101594335(B1) 申请公布日期 2016.02.16
申请号 KR20080118723 申请日期 2008.11.27
申请人 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 发明人 야마자키 순페이
分类号 H01L21/28;H01L21/336;H01L29/78;H01L29/786 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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