发明名称 VACUUM TREATMENT DEVICE
摘要 본 발명의 진공 처리 장치는, 진공 용기 내에서 기판 지지부(41)에 지지된 기판의 처리면에 대향하여 설치된 가열부(24)와, 기판 지지부(41)에 지지된 기판의 이면에 대향하여 설치된 냉각부(25)와, 가열부(24)에 의해 기판을 가열 처리할 때 기판과 냉각부(25)의 사이의 소정 위치에 배치됨으로써 기판의 중심부와 외주 부분의 온도차를 저감시키기 때문에, 기판의 외주 부분의 온도를 보정하는 온도 보정부(45)와, 온도 보정부(45)를 소정 위치로부터 퇴피시키는 보정부 이동 장치(49)를 구비한다.
申请公布号 KR20160017059(A) 申请公布日期 2016.02.15
申请号 KR20167000240 申请日期 2014.03.04
申请人 CANON ANELVA CORPORATION 发明人 YASUKAWA HIDEHIRO;SUGIHARA MASAHIRO
分类号 C23C14/58;H01L21/203;H01L21/67;H01L21/683 主分类号 C23C14/58
代理机构 代理人
主权项
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