发明名称 |
掩膜框架组件、其制造方法及制造有机发光显示器的方法 |
摘要 |
本发明提供一种掩膜框架组件、其制造方法及制造有机发光显示器的方法。所述掩膜框架组件包括框架和安装在所述框架上同时在第一方向上被拉伸的掩膜。所述掩膜包括:包括多个沉积图案部分的沉积区域,形成为具有厚度大于所述沉积区域的厚度并且包括在所述沉积区域的两侧上沿第一方向延伸的第一边缘和第二边缘的边缘单元,以及形成为具有厚度大于所述沉积区域的厚度、形成在相邻的沉积图案部分之间并且在第二方向上延伸的两个或更多个肋,其中所述第二方向垂直于所述第一方向。 |
申请公布号 |
CN102569673B |
申请公布日期 |
2016.02.10 |
申请号 |
CN201110341551.0 |
申请日期 |
2011.11.02 |
申请人 |
三星显示有限公司 |
发明人 |
高政佑;小林郁典;李相信;姜泽敎 |
分类号 |
H01L51/56(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/56(2006.01)I |
代理机构 |
北京德琦知识产权代理有限公司 11018 |
代理人 |
罗正云;宋志强 |
主权项 |
一种掩膜框架组件包括:框架;以及安装在所述框架上同时在第一方向上被拉伸的掩膜,其中所述掩膜包括多个分割的掩膜,每个分割的掩膜包括:包括多个沉积图案部分的沉积区域;形成为具有厚度大于所述沉积区域的厚度并且包括在所述沉积区域的两侧上沿所述第一方向延伸的第一边缘和第二边缘的边缘单元;以及均被形成为具有厚度大于所述沉积区域的厚度、形成在相邻的沉积图案部分之间并且在第二方向上延伸的两个或更多个肋,其中所述第二方向垂直于所述第一方向。 |
地址 |
韩国京畿道 |