发明名称 |
激光图案化偏斜校正 |
摘要 |
一种激光图案化对准方法提供一种用于执行以下步骤的方式:在激光图案化系统中将目标定位于工作距离处,使得所述目标上的基准标记定位于至少三个激光图案化系统相机的视图中;使用每一个激光图案化系统相机来查找所述目标上的基准标记的位置并将已查到位置的基准标记的位置数据发送到控制器;确定使预期基准标记位置与已发送的基准标记位置数据对准所必需的校正;以及使用已确定的校正来调节所述激光图案化系统。 |
申请公布号 |
CN105320399A |
申请公布日期 |
2016.02.10 |
申请号 |
CN201510303469.7 |
申请日期 |
2015.06.05 |
申请人 |
恩耐激光技术有限公司 |
发明人 |
V·P·埃里科;R·C·希普曼 |
分类号 |
G06F3/0481(2013.01)I;G06T7/00(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G06F3/0481(2013.01)I |
代理机构 |
北京北翔知识产权代理有限公司 11285 |
代理人 |
杨勇;郑建晖 |
主权项 |
一种激光图案化对准方法,其包括:在激光图案化系统中将目标定位于工作距离处,使得所述目标上的基准标记定位于至少三个激光图案化系统相机的视图中;使用每一个激光图案化系统相机来查找所述目标上的基准标记的位置并将已查到位置的基准标记的位置数据发送到控制器;确定使预期基准标记位置与已发送的基准标记位置数据对准所必需的校正;以及使用已确定的校正来调节所述激光图案化系统。 |
地址 |
美国华盛顿州 |