发明名称 一种石墨烯霍尔集成电路及其制备方法
摘要 本发明公开了一种石墨烯霍尔集成电路及其制备方法。本结构包括一硅基CMOS电路芯片、一石墨烯霍尔元件,芯片的核心电路区外围设有若干互连电极和压焊电极,芯片表面除互连电极、压焊电极之外的区域上方覆盖一钝化层,互连电极、压焊电极与芯片分别通过钝化层下的金属线电连接;芯片的核心电路区上方的钝化层上依次为有机分子层、石墨烯霍尔元件;石墨烯霍尔元件的电极分别通过金属互连线与互连电极连接。通过对霍尔集成电路表面覆盖一钝化层进行封装,只露出压焊电极,以便实际使用中方便和外电路连接。本发明的霍尔集成电路完全利用微加工手段制备,所需芯片面积小、制备效率高、成本低。
申请公布号 CN103066098B 申请公布日期 2016.02.10
申请号 CN201210575355.4 申请日期 2012.12.26
申请人 北京大学 发明人 徐慧龙;张志勇;彭练矛;王胜
分类号 H01L27/22(2006.01)I;H01L43/10(2006.01)I;H01L43/06(2006.01)I;H01L23/538(2006.01)I;H01L43/14(2006.01)I 主分类号 H01L27/22(2006.01)I
代理机构 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) 11200 代理人 余长江
主权项 一种石墨烯霍尔集成电路,其特征在于,包括一硅基CMOS电路芯片(1)、一石墨烯霍尔元件,硅基CMOS电路芯片的核心电路区外围设有若干金属互连电极(2)和若干金属压焊电极(11),硅基CMOS电路芯片表面除所述金属互连电极、金属压焊电极之外的区域上方覆盖一第一钝化层(7),所述金属互连电极、金属压焊电极与硅基CMOS电路芯片分别通过第一钝化层(7)下的金属线电连接;硅基CMOS电路芯片的核心电路区上方的钝化层上依次为有机分子层(8)、所述石墨烯霍尔元件;所述石墨烯霍尔元件的电极分别通过金属互连线与互连电极连接。
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