可调整曝光强度的曝光系统

摘要

本发明的曝光系统包括一光源装置、一控制装置、一光线调配装置、一第一光学装置、一第二光学装置及一透镜阵列装置。控制装置产生一控制讯号。光线调配装置接收光源装置产生的光线，且具有多个反射单元。每一反射单元具有多个反射镜，且依据控制装置的控制讯号控制每一反射单元的反射镜运作，以将光线调配成对应的多个调配光线，并调整该多个调配光线的强度。透镜阵列装置有多个透镜。该数个透镜是一对一地对应光线调配装置的反射单元。如此，本发明的曝光系统可藉由控制讯号控制反射单元的反射镜来调整调配光线的强度。

主权项

一种曝光系统，其特征在于，包括：一光源装置，产生一光线；一控制装置，产生一控制讯号；一光线调配装置，接收该光线，且具有多个反射单元，每一反射单元具有多个反射镜，且依据该控制讯号控制每一反射单元的反射镜运作，该数个反射单元分别将该光线调配成对应的多个调配光线，并调整该数个调配光线的光强度；一第一光学装置；一第二光学装置；及一透镜阵列装置，位于该第一光学装置与该第二光学装置之间，且具有多个透镜，是一对一地对应该光线调配装置的反射单元；其中，该数个反射单元调配的该数个调配光线系依序通过该第一光学装置、该透镜阵列装置的透镜及该第二光学装置。