| 摘要 |
1. Система термического напыления для формирования на подложке покрытий из жидкой суспензии, содержащая:факел термического напыления для генерирования плазмы;подсистему подачи жидкой суспензии для подачи потока жидкой суспензии с субмикронными частицами; иузел сопла для подачи плазмы из факела термического напыления к жидкой суспензии для формирования вытекающего плазменного потока, причем узел сопла приспособлен для формирования экрана из инертного газа, по существу окружающего упомянутый вытекающий плазменный поток;при этом упомянутый инертный экран выполнен с возможностью по существу удерживать увлечение субмикронных частиц в вытекающем плазменном потоке и по существу препятствовать поступлению газов в вытекающий плазменный поток и их реакции с вытекающим плазменным потоком.2. Система термического напыления по п. 1, в которой экран является протяженным от узла сопла до поверхности подложки.3. Система термического напыления по п. 1, в которой экран является ламинарной текучей защитой.4. Система термического напыления по п. 1, в которой экран имеет аксиальную дистанцию, которая меньше дистанции от сопла до поверхности подложки.5. Система термического напыления по п. 4, в которой экран расходится по направлению к подложке.6. Система термического напыления по п. 4, в которой экран сходится по направлению к подложке.7. Система термического напыления по п. 1, в которой подсистема подачи жидкой суспензии содержит инжектор, приспособленный для формирования оболочки из инертного или химически активного газа, окружающего поток жидкой суспензии.8. Система термического напыления по п. 1, в которой система жидкой суспензии выполнена с внешней |
