ハードマスク及びハードマスクの製造方法

摘要

エッチング耐性を発揮する膜密度を持ちながら、その膜ストレスの低いハードマスクを提供する。処理対象物Ｗに対して所定の処理を施す際に、処理対象物表面への処理範囲を制限するために設けられる本発明のハードマスクＨＤは、窒化チタン膜で構成され、この窒化チタン膜を二層構造とし、下側層Ｌ１が、ハードマスクの全膜厚ｈｔの５〜５０％の範囲内の膜厚ｈ１を有すると共に３．５ｇ／ｃｍ３〜４．７ｇ／ｃｍ３の範囲内の膜密度を有し、上側層が４．８ｇ／ｃｍ３〜５．３ｇ／ｃｍ３の範囲内の膜密度を有する。