| 摘要 |
Un dispositivo de generación de plasma (1), que comprende: un ánodo (7); un cátodo (5), teniendo dicho cátodo una punta (15), siendo dicha punta la parte del cátodo más próxima al ánodo y en disminución hacia el ánodo, teniendo dicha punta una base (31) en el extremo más alejado del ánodo; un canal de plasma (11), que se extiende longitudinalmente entre dicho cátodo y a través de dicho ánodo, y que tiene una abertura de salida en el extremo más alejado de dicho cátodo, estando formada una parte de dicho canal de plasma mediante uno o varios, preferentemente dos o más, electrodos intermedios (9', 9'', 9''') aislados eléctricamente entre sí y dicho ánodo; y una cámara de plasma (17) conectada dicho canal de plasma en el extremo del cátodo de dicho canal de plasma, en el que una parte de dicha punta del cátodo se extiende longitudinalmente a lo largo de una longitud parcial de la cámara de plasma, y en el que la distancia entre el extremo de la punta del cátodo (33) más próximo al ánodo y el extremo del cátodo de dicho canal de plasma (35) es menor o igual que la distancia entre el extremo de la punta del cátodo más próximo al ánodo y cualquier otra superficie, caracterizado porque el dispositivo de generación de plasma comprende además un elemento aislante tubular (19) que se extiende a lo largo, y alrededor de una parte del cátodo y tiene una superficie límite (21) en el extremo más próximo al ánodo, estando situada dicha punta del cátodo (15) de tal modo que una longitud parcial (lc) de dicha punta del cátodo (15) sobresale más allá de la superficie límite (21) de dicho elemento aislante tubular (19). |
