| 摘要 |
<p>Verwendung einer Vorrichtung bei der auf die Oberfläche der Kunststofffolie in Dünnschichttechnologie mindestens eine Schicht aufgebracht werden soll, und bei der bei der Prozessierung in einer geschlossenen Vakuumkammer, eine Gaszuführungseinheit (1) im Bereich eines Wickelspaltes angeordnet ist und dabei eine Gasströmung in den Wickelspalt über die Breite der Kunststofffolie durch eine oder mehrere Gasauslassöffnung(en) beim Auf- oder Abwickeln gerichtet ist; und eine Nachführungsvorrichtung an der Gaszuführungseinheit (1) vorhanden ist, mit der, der sich beim Ab- oder Aufwickeln verändernde Abstand und die Position zum Wickelspalt so berücksichtigt ist, dass der Abstand der Gaszuführungseinheit (1) zum Wickelspalt konstant gehalten ist, zur elektrischen Entladung von Kunststofffolien im Vakuum beim Ab- und Aufwickeln von oder auf die Rollen.</p> |
