基板处理装置、器件制造方法以及曝光方法

摘要

本发明提供一种能够以高生产率来生产高品质的基板的基板处理装置以及器件制造方法。本基板处理装置以及器件制造方法具有：第一支承构件，其在照明区域和投影区域中的一方区域中，以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其在照明区域和投影区域中的另一方区域中，以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，使该第一支承构件所支承的光罩和基板中的某一方在扫描曝光方向上移动。投影光学系统在基板的曝光面上，将在扫描曝光方向上包括两处最佳聚焦位置的光束投射至投影区域。

主权项

一种基板处理装置，其具有将来自光罩的图案的光束投射至配置有基板的投影区域的投影光学系统，其中，所述光罩配置于照明光的照明区域，所述基板处理装置的特征在于，具有：第一支承构件，其在所述照明区域和所述投影区域中的一方区域中，以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承所述光罩和所述基板中的一方；第二支承构件，其在所述照明区域和所述投影区域中的另一方区域中，以沿着规定的第二面的方式来支承所述光罩和所述基板中的另一方；和移动机构，其使所述第一支承构件旋转，使该第一支承构件所支承的所述光罩和所述基板中的某一方在扫描曝光方向上移动，所述投影光学系统在所述基板的曝光面上，将在所述扫描曝光方向上包括两处最佳聚焦位置的光束投射至所述投影区域。