发明名称 |
处理室、半导体制造设备及使用其的基板处理方法 |
摘要 |
本申请公开了一种半导体制造设备,其包括设有基板移动装置以移动基板的传送室,对准基板并将基板装载到传送室和从传送室卸载该基板的真空室,和处理从传送室转移的基板的至少一个处理室。该至少一个处理室中的每一个都包括室主体、基板支架和至少一个分隔器,该室主体设有形成在其侧表面上的基板入口,该基板支架设在室主体内以将至少两个基板设置在基板支架上,该至少一个分隔器设在室主体内以对准该至少两个基板。 |
申请公布号 |
CN102194665B |
申请公布日期 |
2016.02.03 |
申请号 |
CN201110068029.X |
申请日期 |
2011.03.18 |
申请人 |
周星工程股份有限公司 |
发明人 |
李龙炫;李明振;车安基 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/68(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
兰州中科华西专利代理有限公司 62002 |
代理人 |
李艳华 |
主权项 |
一种处理室,包括:室,设有形成在其侧表面上的基板入口;基板支架,设在室内从而使至少两个基板设置在基板支架上;和分隔器,设在室内以对准该至少两个基板,其中该分隔器具有彼此交叉的直线形状以分开并对准四个基板,其中该分隔器包括支撑该至少两个基板的边缘的支撑部件和接触该至少两个基板以使该至少两个基板彼此分离的分离部件,其中该分离部件具有梯形形状,并且在使基板彼此分离的同时减少与基板直接接触的面积。 |
地址 |
韩国京畿道 |