发明名称 |
三维存储装置 |
摘要 |
本发明公开了一种三维存储装置。三维存储装置包括存储元件区、第一阶梯结构、第二阶梯结构、第一导电条以及第二导电条。存储元件区包括第一叠层结构以及第二叠层结构。第一叠层结构包括第一半导体条,第二叠层结构包括第二半导体条。第一阶梯结构位于存储元件区的一侧,第一半导体条的一端连接第一阶梯结构。第二阶梯结构位于存储元件区的对侧,第二半导体条的一端连接第二阶梯结构。第一导电条透过第一阶梯结构耦接至第一半导体条。第二导电条透过第二阶梯结构耦接至第二半导体条。 |
申请公布号 |
CN105304634A |
申请公布日期 |
2016.02.03 |
申请号 |
CN201410342696.6 |
申请日期 |
2014.07.18 |
申请人 |
旺宏电子股份有限公司 |
发明人 |
吕函庭 |
分类号 |
H01L27/115(2006.01)I;G11C16/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/115(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
任岩 |
主权项 |
一种三维存储装置,包括:一存储元件区,包括:一第一叠层结构,包括一第一半导体条;以及一第二叠层结构,包括一第二半导体条,该第二叠层结构与该第一叠层结构平行且相邻;一第一阶梯结构,位于该存储元件区外的一侧,该第一半导体条的一端连接该第一阶梯结构;一第二阶梯结构,位于该存储元件区外的对侧,该第二半导体条的一端连接该第二阶梯结构;一第一导电条,透过该第一阶梯结构耦接至该第一半导体条;以及一第二导电条,透过该第二阶梯结构耦接至该第二半导体条。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区力行路16号 |