| 发明名称 |
滚轮对滚轮晶圆背面颗粒及污染移除 |
| 摘要 |
揭露颗粒清洁组件以及用于清洁之方法。一个范例中，描述一种用于从基板之背侧表面移除颗粒的装置。该装置包括：腔室主体，具有基板夹持装置；颗粒清洁制品，定位于该基板支撑表面上方；光学感测装置，定位在该颗粒清洁制品下方；以及基板定位装置，将该颗粒清洁制品与基板分开。另一范例中，揭露一种用于从基板移除颗粒的方法。该方法包括将具有处理表面与支撑表面的基板定位在处理腔室中。该基板的至少一部分可被夹持到基板夹持装置，该基板夹持装置具有基板支撑表面，而颗粒清洁制品定位于该基板支撑表面上。该基板随后从该颗粒清洁制品分离，而留下颗粒。
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| 申请公布号 |
TW201604930 |
申请公布日期 |
2016.02.01 |
| 申请号 |
TW104118139 |
申请日期 |
2015.06.04 |
| 申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
倪克里斯多夫Ｓ;戴辉雄;葛迪鲁多维;叶怡利 |
| 分类号 |
H01L21/02(2006.01);H01L21/67(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财;李世章 |
| 主权项 |
一种用于移除颗粒之装置，包括：一基板夹持(chucking)装置，具有一基板支撑表面；一供应组件与一收取组件，装设成接收一颗粒清洁制品，该颗粒清洁制品具有供该颗粒清洁制品所用的一路径，该路径位于该基板支撑表面上方且接触该基板支撑表面；及一基板定位装置，装设成分离该颗粒清洁制品与一基板。
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| 地址 |
美国 |
