发明名称 薄膜之成膜方法及成膜装置
摘要 一种以低成本成膜形成具备耐久性的薄膜之方法。该成膜方法系使用成膜装置1。该装置1系包括:真空容器11,基板100系被配置在其内部下方;真空泵15,其系用以将该容器11内排气;储存容器23,其系储存成膜剂溶液21且设置在容器11外部;及喷嘴17,其系在一端具有能够将成膜剂溶液21吐出之吐出部19。作为成膜剂溶液21,系使用由包括第1材料(S1)、及具有比该S1的蒸气压(P1)更高的蒸气压(P2)之第2材料(S2)之2种类以上的材料所构成之溶液。将该成膜剂溶液21在比P1更高且比P2更低的压力之环境下吐出至基板。
申请公布号 TW201604310 申请公布日期 2016.02.01
申请号 TW104114354 申请日期 2015.05.06
申请人 新柯隆股份有限公司 发明人 佐守真悟;高瀬慎一;菅原聡;长江亦周;姜友松
分类号 C23C16/44(2006.01) 主分类号 C23C16/44(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项 一种成膜方法,系在真空中于基板上形成薄膜之成膜方法,其特征在于:将包括第1材料(S1)、及具有比该S1的蒸气压(P1)更高的蒸气压(P2)之第2材料(S2)之2种类以上的材料所构成之溶液,在比P1更高且比P2更低的压力之环境下吐出至基板。
地址 日本