使用依方向而定的扫描速度或功率的溅镀系统及方法

摘要

镀系统具有一处理腔，该处理腔具有一入口埠和一出口埠。该溅镀系统并具有一溅镀靶材，配置在处理腔的侧壁上。一可移动磁体结构配置在溅镀靶材的后方，并在该靶材的后方往复滑动。一输送机以恒定速度连续输送基板通过该溅镀靶材，使得在任何给定时间中，多个基板可面对靶材的前缘和后缘之间。在若干实例中，该可移动磁体结构滑动的速度比该输送机的恒定速度至少快数倍。一种反转区域定义在该靶材的前缘和后缘的后方。其中，当该磁体结构进入该反转区域时会减速，且该磁体结构在该反转区域内反转滑动的方向后，则加速。在若干实施例中，磁体的功率及/或行进速度以该磁体行进方向为函数而变化。

主权项

一种用于从靶材溅镀材料到基板上的系统，包括：一载具，可操作以一下游方向传送该基板；及一或多个处理腔室，包括一沉积腔，使该基板可以该下游方向通过，该沉积腔包括：一靶材；一磁体组件，可操作以使一磁极以该下游方向以一下游扫描速度扫描该靶材，并在反于该下游方向的上游方向，以一上游扫瞄速度扫描该靶材；及一控制器，可操作以控制该扫描速度，该扫描速度为扫描方向的函数。