| 发明名称 | 激光退火装置 | ||
| 摘要 | 激光退火装置，用于对放置于工件台上的矽片进行退火，包括：激光光源，用于发出光束；第一光学单元，用于将激光光源发出的所述光束转换为第一类型偏振光；以及第二光学单元，包括一光引导元件以及第一反射元件，所述光引导元件用于使所述第一类型偏振光沿第一光路第一次入射至矽片表面并由矽片表面反射，所述反射光经第一反射元件反射后沿与所述第一光路对称的第二光路第二次入射至矽片表面并由矽片表面反射至所述光引导元件。 | ||
| 申请公布号 | TW201604939 | 申请公布日期 | 2016.02.01 |
| 申请号 | TW104121647 | 申请日期 | 2015.07.03 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 宋春峰;张鹏黎;陆海亮 |
| 分类号 | H01L21/268(2006.01);H01L21/324(2006.01);H01L21/67(2006.01) | 主分类号 | H01L21/268(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | 赖经臣;宿希成 | |
| 主权项 | 一种激光退火装置，用于对放置于工件台上的矽片进行退火，包括：激光光源，用于发出光束；第一光学单元，用于将激光光源发出的所述光束转换为第一类型偏振光；以及第二光学单元，包括一光引导元件以及第一反射元件，所述光引导元件用于使所述第一类型偏振光沿第一光路第一次入射至矽片表面并由矽片表面反射，所述反射光经第一反射元件反射后沿与所述第一光路对称的第二光路第二次入射至矽片表面并由矽片表面反射至所述光引导元件。 | ||
| 地址 | 中国 | ||