发明名称 | 一种2-羟基二苯甲酮衍生物基硅烷的制备方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种2-羟基二苯甲酮衍生物基硅烷的制备方法,包括以下步骤:将2-羟基二苯甲酮衍生物、环氧基硅烷和适量溶剂加入到反应釜中,搅拌,待反应物完全溶解后,升温至70~100℃,投入适量的碱催化剂,然后保温度反应3~8h,而后降低反应温度至50℃以下,加入去离子水洗数次,减压蒸馏出溶剂,得到浅黄色至琥珀色粘稠液体即2-羟基二苯甲酮衍生物基硅烷。本发明所采用原材料市场充足,产品成本低,得到的2-羟基二苯甲酮衍生物基硅烷对280nm~400nm的紫外线具有良好吸收作用,并能在温和条件下与金属、玻璃、木材、陶瓷、硅酸盐、塑料等材料的表面进行反应,形成一层具有紫外线吸收和光固化功能的薄膜。 | ||
申请公布号 | CN105272998A | 申请公布日期 | 2016.01.27 |
申请号 | CN201510799788.1 | 申请日期 | 2015.11.19 |
申请人 | 陕西省石油化工研究设计院 | 发明人 | 王前进;史李刚;张存社;娟;黄方方 |
分类号 | C07F7/18(2006.01)I | 主分类号 | C07F7/18(2006.01)I |
代理机构 | 西安文盛专利代理有限公司 61100 | 代理人 | 彭冬英 |
主权项 | 2‑羟基二苯甲酮衍生物基硅烷的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:将2‑羟基二苯甲酮衍生物、环氧基硅烷和溶剂加入到反应釜中,50~500r/min搅拌,待反应物完全溶解后,升温,在70~100℃下投入碱催化剂,然后,保温度反应3~8h;反应结束后,降低反应温度至50℃以下,加入去离子水洗数次,减压蒸馏出溶剂,即得到2‑羟基二苯甲酮衍生物基硅烷。 | ||
地址 | 710054 陕西省西安市西延路61号 |