发明名称 一种解决TEOS机台保养后颗粒跳高的方法
摘要 一种解决TEOS机台保养后颗粒跳高的方法,包括进口管路、流量计、薄膜分支管路、薄膜分支管路的雾化器、厚膜分支管路、厚膜分支管路的雾化器和工艺腔室,TEOS机台保养后,通过淀积TEOS厚膜和淀积TEOS薄膜的工艺方法,以跑假片的方式,对厚膜分支管路和薄膜分支管路分别各进行至少一次的清洁处理,以排出薄膜分支管路和厚膜分支管路中的结晶小颗粒;本发明能有效解决由于管路气体回流造成的二次颗粒污染,并使得薄膜分支管路和厚膜分支管路中的结晶颗粒都得到有效清洁,从而解决机台保养后的颗粒跳高问题。
申请公布号 CN104032281B 申请公布日期 2016.01.27
申请号 CN201410286826.9 申请日期 2014.06.24
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 顾梅梅;谢素兰;陈建维;张旭升
分类号 C23C16/44(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I 主分类号 C23C16/44(2006.01)I
代理机构 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人 吴世华;林彦之
主权项 一种解决TEOS机台保养后颗粒跳高的方法,所述TEOS机台包括有进口管路、薄膜分支管路、厚膜分支管路和工艺腔室,所述进口管路装有流量计,所述薄膜分支管路和厚膜分支管路分别装有雾化器,所述薄膜分支管路和厚膜分支管路分别连通所述TEOS机台的工艺腔室,其特征在于,所述方法包括:通过淀积TEOS厚膜和淀积TEOS薄膜的工艺方法,以跑假片的方式,向所述厚膜分支管路和薄膜分支管路分别通入TEOS,对所述厚膜分支管路和薄膜分支管路分别各进行至少一次的清洁处理,以排出所述薄膜分支管路和厚膜分支管路中的结晶小颗粒;其中,在对所述厚膜分支管路进行清洁处理时,选用淀积TEOS厚膜工艺跑假片,由所述进口管路通入的TEOS,经所述厚膜分支管路和薄膜分支管路的交叉口进入所述厚膜分支管路,并排向所述工艺腔室,在对所述薄膜分支管路进行清洁处理时,选用淀积TEOS薄膜工艺跑假片,由所述进口管路通入的TEOS,经所述厚膜分支管路和薄膜分支管路的交叉口进入所述薄膜分支管路,并排向所述工艺腔室。
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