| 发明名称 | 蚀刻液组合物及使用其制造液晶显示器用阵列基板的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种蚀刻液组合物，包括：金属层氧化剂；氟化物；含氮原子的化合物；磷酸；聚乙二醇；以及余量的水，其中，基于1克上述蚀刻液组合物，聚乙二醇的重复单元的毫摩尔量用于表示环氧乙烷水平，并且蚀刻液组合物的环氧乙烷水平为0.4～2；并且公开了一种使用该组合物制造用于液晶显示器的阵列基板的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN105274527A | 申请公布日期 | 2016.01.27 |
| 申请号 | CN201510354318.4 | 申请日期 | 2015.06.24 |
| 申请人 | 东友精细化工有限公司 | 发明人 | 崔汉永;金炫佑;田玹守;赵成培;金相泰;李俊雨 |
| 分类号 | C23F1/18(2006.01)I;C23F1/26(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人 | 武晨燕;胡春光 |
| 主权项 | 一种蚀刻液组合物，包括：金属层氧化剂；氟化物；含氮原子的化合物；磷酸；下述化学式1的聚乙二醇；以及余量的水，其中，基于1克所述蚀刻液组合物，下述化学式1的聚乙二醇的重复单元的毫摩尔量用于表示环氧乙烷水平，并且所述蚀刻液组合物的环氧乙烷水平为0.4～2，<img file="FDA0000744232050000011.GIF" wi="627" he="338" />其中n是2～100的整数，并且R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>各自独立地为氢、C1～C4的脂肪族烃基或苯基。 | ||
| 地址 | 韩国全罗北道 | ||