| 摘要 |
본 발명은 하나 이상의 액정 화합물; 하나 이상의 이색성 염료; 및 3-차원 구조, 450 Da 초과의 분자량 및 하나 이상의 앵커 기를 갖는 화합물 A로 이루어진 군, 또는 하나 이상의 고리 기 및 하나 이상의 앵커 기를 갖는 유기 화합물 B로 이루어진 군으로부터 선택되는, 소정 온도에서 인접 액정 매질에 대한 호메오트로픽 정렬을 증진시키거나 유도할 수 있는 하나 이상의 화합물을 포함하는 액정 매질에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 액정 매질을 함유하는, 광 투과의 조절을 위한 온도-반응성 장치, 및 상기 액정 매질의 층을 통과하는 광 투과의 온도-의존적 조절 방법에 관한 것이다. |
