多曝光图案分解的系统和方法

摘要

实施例提供了一种用来识别一设计布局内不符合制造限制的图案的误差标志之方法及系统。某些实施例自该被标示有误差的区域延伸一区域，以便提取用于分解分析之一图案。某些实施例将该被提取的图案与一程式库中储存的已知图案比较，而该程式库也储存了每一已知图案的至少一先前计算出之分解解决方案。对于该程式库内存在的一被提取之图案而言，某些实施例自该程式库撷取先前计算出之分解解决方案。对于不存在于该程式库内之一被提取的图案而言，某些实施例将一或多个模拟用来决定该被提取的图案之一分解解决方案。所得到之分解解决方案取代了该设计布局内之该被提取的图案，因而产生了其中包含该图案的被分解之解决方案之原始布局之一变形。

主权项

一种方法，包含：识别一电路设计布局的一特定层中不符合至少一限制之一图案；对于该被识别的图案，将各者分割该已被识别的图案之多个不同分解解决方案识别至至少二区域；于一电脑，实施至少一模拟于该多个分解解决方案上以存取一制造图案，该制造图案由该等分解解决方案之各者产生；对于该被识别的图案，自该多个分解解决方案中选择一分解解决方案，该分解解决方案基于该模拟之结果符合该限制；以及以该选择之分解解决方案取代该电路设计布局中之该被识别的图案。