| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Reinigen einer Oberfläche eines Bauteils einer Prozesskammer eines CVD-Reaktors, mit einem drehantreibbaren Träger, wobei die Vorrichtung ein auf den Träger aufsetzbares Basisteil (1) aufweist, mit Reinigungselementen (6), die mit der zu reinigenden Oberfläche insbesondere einer, dem Träger gegenüberliegenden Gasaustrittsfläche eines Gaseinlassorganes in Kontakt bringbar sind und durch Drehen des Trägers relativ zur zu reinigenden Oberfläche bewegbar sind. Zur Verbesserung der Reinigungsleistung wird vorgeschlagen, dass ein dem Basisteil (1) zugeordnetes Reinigungsorgan (5) Reinigungselemente (6') aufweist, welches Reinigungsorgan von Antriebsmitteln (7, 8, 10, 11) derart relativ gegenüber dem Basisteil (1) bewegbar ist, dass sich die Reinigungselemente (6') relativ zur zu reinigenden Oberfläche bewegen. |
