| 发明名称 | 以轨道处理在定向自组装化学外延应用中移除有机膜 | ||
| 摘要 | 明系制备预图案化基板以用于DSA整合中的方法。一例中，该方法包含移除覆盖于图案化交联聚苯乙烯共聚物层的辐射敏感性材料图案，其系藉由（a）暴露于溶剂蒸气；（b）暴露于液态溶剂；（c）重覆（a）到（b），一直到完全移除辐射敏感性材料。另一例中，该方法包含：藉由影响下方图案化辐射敏感性材料层的移除来移除中性层的步骤，该步骤包含：膨胀中性层；及藉由将膨胀层及图案暴露至显影液移除辐射敏感性材料图案及部分膨胀中性层。膨胀中性层包含：（a）暴露于溶剂蒸气；（b）暴露于液态溶剂；及（c）重复（a）到（b），一直到中性层膨胀到足以允许显影液侵入膨胀中性层。 | ||
| 申请公布号 | TWI518447 | 申请公布日期 | 2016.01.21 |
| 申请号 | TW103109712 | 申请日期 | 2014.03.14 |
| 申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 桑末薇拉 马克Ｈ;修里 里欧;海哲 大卫 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01);G03F7/42(2006.01) | 主分类号 | G03F7/00(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | 周良谋;周良吉 | |
| 主权项 | 一种形成预图案的方法，包含： 设置带有一辐射敏感性材料图案的一基板，该辐射敏感性材料图案系覆盖于一图案化交联的聚苯乙烯共聚物层；及 移除覆盖于该图案化交联的聚苯乙烯共聚物层的该辐射敏感性材料图案， 其中移除覆盖于该图案化交联的聚苯乙烯共聚物层的该辐射敏感性材料图案的步骤包含： （a）将该辐射敏感性材料图案暴露于一溶剂蒸气； （b）将该辐射敏感性材料图案暴露于一液态溶剂； （c）重覆步骤（a）到（b），直到完全地移除该辐射敏感性材料图案为止。 | ||
| 地址 | 日本 | ||