发明名称 透明基板的表面图案不良测定装置
摘要 明涉及透明基板的表面图案不良测定装置,即便由于反射率低的物质在透明基板形成图案,而透明基板和形成图案的物质之间不存在太大的反射率差异,也能使透明基板的反射率接近0,从而带来图案物质的反射率相对增加的效果,提高图案物质和透明基板之间的反射对比度,由此测定提高检测准确度的表面图案或图案是否不良的装置。
申请公布号 TWI518313 申请公布日期 2016.01.21
申请号 TW103135703 申请日期 2014.10.15
申请人 技佳唯斯股份有限公司 发明人 全载弼;白承丸;金泽兼;金德镐
分类号 G01N21/956(2006.01);G01N21/958(2006.01) 主分类号 G01N21/956(2006.01)
代理机构 代理人 潘海涛;袁铁生
主权项 一种表面图案测定装置,包括:基板,形成有与该基板不同物质的图案,且反射率和上述图案物质不同,照射部,以使电场与上述基板平行即p偏转的光按照由上述基板的折射率和与上述基板交界的介质的折射率决定的布鲁斯特角入射的方式,向上述基板照射上述p偏转光,以及检测部,检测被上述基板反射的光;上述照射部包括:镭射光源,射出雷射光束,扫描器,将所入射的上述雷射光束,根据扫描器控制信号,使路径以规定辐射角连续变更的方式反射,偏光仪,配置于上述雷射光束向上述扫描器入射的路径及上述雷射光束被上述扫描器反射的路径这两者中的任一路径,使上述雷射光束相对于上述基板被p偏转,以及圆筒形凹面镜,使被p偏转的上述雷射光束向第一方向折射;上述第一方向和上述基板的法线之间的角为,由上述基板的折射率和与上述基板交界的介质决定的布鲁斯特角;上述圆筒形凹面镜以使所入射的被p偏转的上述雷射光束的偏光程度均匀的方式进行反射。
地址 南韩