发明名称 一种粒子照射装置以及包括该装置的粒子治疗系统
摘要 本发明涉及一种粒子照射装置,包括:沿着中心轴线传输的粒子束流,包括第二粒子束和第三粒子束;安装在第三粒子束的传输路径上的准直器,第三粒子束通过准直器形成与肿瘤靶区对应的照野形状完全一致的二维分布;安装在第二粒子束的传输路径上的具有围绕中心轴线可旋转的遮挡件的平坦化装置;遮挡件将第二粒子束平坦化形成第三粒子束。本发明还提供一种包括粒子照射装置的粒子治疗系统。本发明通过平坦化装置实现剂量的均匀化分布,只需要简单的遮挡件即可获得期望的粒子照射装置以及包括装置的粒子治疗系统,从而提高照射装置和治疗系统的可靠性,同时降低成本。
申请公布号 CN105251138A 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201510778390.X 申请日期 2015.11.13
申请人 上海艾普强粒子设备有限公司 发明人 蒲越虎;马晓颖;贾亚军;张潇;吴超
分类号 A61N5/10(2006.01)I 主分类号 A61N5/10(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人 邓琪;宋丽荣
主权项 一种粒子照射装置,包括:沿着中心轴线(110a)传输的粒子束流,其包括第二粒子束(340)和第三粒子束(370);安装在第三粒子束(370)的传输路径上的准直器(350),该第三粒子束(370)通过准直器(350)形成与肿瘤靶区(50)对应的照野形状完全一致的二维分布;其特征在于,安装在第二粒子束(340)的传输路径上的平坦化装置(360),该平坦化装置(360)包括围绕中心轴线(110a)可旋转的遮挡件(365),所述遮挡件(365)将所述第二粒子束(340)平坦化形成第三粒子束(370)。
地址 201800 上海市嘉定区嘉罗公路2019号