发明名称 温度测量装置、温度测量方法和热处理装置
摘要 本发明提供温度测量装置、温度测量方法和热处理装置。温度测量装置用于推断处理容器内的温度分布,包括:辐射温度测量部,沿着旋转台的径向扫描旋转台的一个面侧而能测量沿着径向的多个温度测量区域的温度;动作控制部,一边使旋转台相对于辐射温度测量部旋转,一边在旋转台的整个周向上重复进行测量多个温度测量区域的温度的处理而取得旋转台的径向和周向上的多个温度测量区域的温度;温度映射制作部,基于每一次扫描的温度测量区域的数量及旋转台的转速,指定温度测量区域的地址,使温度和地址相关联并存储到存储部中;温度数据显示处理部,基于存储部中的温度和地址,将旋转台的一个面侧的温度分布显示为处理容器内的温度分布的推断值。
申请公布号 CN102798468B 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201210168015.X 申请日期 2012.05.25
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 诸井政幸;菊池仁;小堆正人
分类号 G01J5/00(2006.01)I;G01J5/02(2006.01)I 主分类号 G01J5/00(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;张会华
主权项 一种温度测量装置,其用于推断热处理装置的处理容器内的温度分布,该热处理装置包括:上述处理容器,其在内部设有用于载置基板的旋转台;加热部,其用于加热该处理容器,其中,该温度测量装置包括:辐射温度测量部,其以通过沿着上述旋转台的径向扫描该旋转台的一个面侧而能够测量沿着该径向形成的多个温度测量区域的温度的方式设置;指示接受部,其用于接受上述处理容器内的温度分布的测量指示;动作控制部,在上述指示接受部接受上述处理容器内的温度分布的测量指示时,其开始利用上述加热部加热上述处理容器,并且使上述旋转台静止,在从利用上述加热部开始加热上述处理容器经过规定的时间之后,其一边使上述旋转台相对于上述辐射温度测量部旋转,一边在该旋转台的整个周向上重复利用上述辐射温度测量部沿着上述旋转台的径向扫描该旋转台的上述一个面侧来测量上述多个温度测量区域的温度的处理,自上述辐射温度测量部取得上述多个温度测量区域的温度;温度映射制作部,其基于上述辐射温度测量部沿着上述旋转台的径向扫描的每一次扫描的温度测量区域的数量及上述旋转台的转速,指定上述动作控制部取得了上述温度的上述温度测量区域的地址,使该温度和该地址相关联并存储到存储部中;温度数据显示处理部,其基于由上述温度映射制作部存储到上述存储部中的上述温度和上述地址,将上述旋转台的上述一个面侧的温度分布显示为上述处理容器内的温度分布的推断值。
地址 日本东京都