发明名称 |
一种真空管和真空装置 |
摘要 |
本实用新型提供一种真空管和真空装置,属于机械技术领域,其可解决现有的真空泵抽取真空腔室中的气体时,真空管道外壁产生的水珠以及真空管道内压强不稳定导致的真空度不稳定的问题。本实用新型的一种真空管,包括外管、内管、真空阀和连接管道,所述内管位于所述外管内,所述连接管道连接所述外管和所述内管,所述真空阀位于所述连接管道上,所述真空阀用于通过连接管道控制所述外管的内壁与所述内管的外壁之间的空隙的真空度。 |
申请公布号 |
CN204986063U |
申请公布日期 |
2016.01.20 |
申请号 |
CN201520780456.4 |
申请日期 |
2015.09.30 |
申请人 |
合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
陈庆友;魏振;郭世波;俞健阳;李风 |
分类号 |
F16L9/18(2006.01)I;F16L59/065(2006.01)I;F16L55/07(2006.01)I |
主分类号 |
F16L9/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
汪源;陈源 |
主权项 |
一种真空管,其特征在于,包括外管、内管、真空阀和连接管道,所述内管位于所述外管内,所述连接管道连接所述外管和所述内管,所述真空阀位于所述连接管道上,所述真空阀用于通过连接管道控制所述外管的内壁与所述内管的外壁之间的空隙的真空度。 |
地址 |
230012 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号 |