| 发明名称 | 电感耦合等离子体反应器 | ||
| 摘要 | 本发明提供等离子体处理设备以及形成等离子体的方法。在一些实施方式中，等离子体处理设备包括具有内处理空间的处理腔室；接近该处理腔室设置的第一RF线圈，以将RF能量耦合至该处理空间；以及接近该处理腔室设置的第二RF线圈，以将RF能量耦合至该处理空间，该第二RF线圈相对于该第一RF线圈同轴设置，其中该第一和第二RF线圈被配置为使得流经该第一RF线圈的RF电流与流经该第二RF线圈的RF电流为异相。 | ||
| 申请公布号 | CN102056393B | 申请公布日期 | 2016.01.20 |
| 申请号 | CN201010240670.2 | 申请日期 | 2010.07.28 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 瓦伦丁·N·托多罗夫;萨姆尔·班纳;安库尔·阿加瓦尔;陈志刚;王泽江;安德鲁·阮;马丁·杰夫·萨利纳斯 |
| 分类号 | H05H1/46(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I | 主分类号 | H05H1/46(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 徐金国;赵静 |
| 主权项 | 一种等离子体处理设备，包括：具有内处理空间的处理腔室；第一RF线圈，该第一RF线圈接近该处理腔室设置，以将RF能量耦合至该处理空间；第二RF线圈，该第二RF线圈接近该处理腔室设置，以将RF能量耦合至该处理空间，该第二RF线圈相对于该第一RF线圈同轴且同心设置；以及移相器，该移相器耦合至该第一RF线圈或第二RF线圈中任一个线圈以移动流经该线圈的RF电流的相，使得流经该第一RF线圈的RF电流与流经该第二RF线圈的RF电流为异相。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||