发明名称 |
相位差膜的制造方法 |
摘要 |
本发明的目的是提供一种更简单且简便的相位差膜的制造方法,该相位差膜的制造方法的特征在于,包括:在基板上涂布包含具有光反应性基团的液晶性聚合物和溶剂的组合物的工序;通过对该组合物进行减压干燥或者在自然干燥后进行加热干燥,从而蒸发除去该组合物中的溶剂,形成光反应性层的工序;对该光反应性层照射直线偏振光,形成热取向性层的工序;对该热取向性层进行加热处理的工序。 |
申请公布号 |
CN103443668B |
申请公布日期 |
2016.01.20 |
申请号 |
CN201280004819.4 |
申请日期 |
2012.02.20 |
申请人 |
大阪有机化学工业株式会社;兵库县 |
发明人 |
椿幸树;阿波茂树;小林武史;松山刚知;川月喜弘 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01)I;B29C41/12(2006.01)I;B29C71/02(2006.01)I;C08F220/30(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I;G02F1/13363(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
杨宏军;王大方 |
主权项 |
相位差膜的制造方法,其特征在于,包括以下工序:涂布工序,在基板上涂布包含具有光反应性基团的液晶性聚合物和溶剂的组合物;光反应性层形成工序,通过对所述组合物进行减压干燥、或者在自然干燥后以低于液晶性聚合物的液晶相温度的温度进行加热干燥,从而蒸发除去该组合物中的溶剂,形成光反应性层;热取向性层形成工序,对所述光反应性层照射直线偏振光,形成热取向性层;热取向性层加热处理工序,对所述热取向层进行加热处理,所述加热处理的温度为液晶性聚合物的液晶相温度以上、且低于各向同性相变温度。 |
地址 |
日本大阪府 |