发明名称 激光辐照装置、激光辐照方法、以及半导体器件制造方法
摘要 本发明的名称是“激光辐照装置、激光辐照方法、以及半导体器件制造方法”。提供一种方法和装置,用来在辐照表面上恒定地建立激光束的能量分布,将激光束均匀地辐照到整个辐照表面。本发明还提供在工艺中包括该激光辐照方法的半导体器件的制造方法。本发明的特征是用光学系统将多个激光束在辐照表面上的形状形成为椭圆形或矩形,在辐照表面沿第一方向移动的同时,发射多个激光束,且辐照表面沿第二方向移动,以及辐照表面在沿与第一方向相反的方向移动的同时,发射多个激光束。在辐照表面沿第一方向移动的同时可以发射多个激光束,并在辐照表面沿与第一方向相反的方向移动的同时,可以发射多个激光束,以及辐照表面也可以沿第二方向移动。
申请公布号 CN101879658B 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201010201368.6 申请日期 2002.08.02
申请人 株式会社半导体能源研究所 发明人 田中幸一郎
分类号 B23K26/00(2014.01)I;H01L21/20(2006.01)I 主分类号 B23K26/00(2014.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 朱海煜;李家麟
主权项 一种激光辐照装置,它包含:<b>多个激光器,发射多个激光束;</b><b>多个透镜,将所述多个激光束在衬底的辐照表面上的形状形成为多个椭圆形或多个矩形,其中,所述多个透镜的数量和所述多个椭圆形或所述多个矩形的数量与所述多个激光束的数量相同;</b><b>在所述衬底的与所述辐照表面相反的另一侧提供的板;以及</b><b>用来移动所述多个激光束在所述辐照表面上的辐照位置的装置,</b><b>其中,所述辐照表面相对于所述多个激光束倾斜地安置,</b>其中所述多个激光束的每一个都以相同的入射角入射到所述衬底,然后通过所述衬底传输,并在所述板上被反射,且再次入射到所述衬底。
地址 日本神奈川县厚木市