| 发明名称 |
反射镜配置、投影透镜及ＥＵＶ微影装置 |
| 摘要 |
明揭示一种反射镜配置(1)，包含：一反射镜(2)，其具有一基板(3)以及用于EUV辐射(9)的一反射涂层(4)，其中该基板(3)由具有一温度相依热膨胀系数的一材料所形成，其在一第一体积区域(V1)内一第一零穿越温度(TZC1)上具有一零穿越，以及在至少一第二表面接近体积区域(V2)内与该第一零穿越温度不同的一第二零穿越温度(TZC2)上具有一第二零穿越，以及至少一热致动器(6)，用于热致动该基板(3)的该第二体积区域(V2)。
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| 申请公布号 |
TW201602631 |
申请公布日期 |
2016.01.16 |
| 申请号 |
TW104111156 |
申请日期 |
2015.04.07 |
| 申请人 |
卡尔蔡司ＳＭＴ有限公司 |
发明人 |
毕特纳 鲍瑞斯;瓦伯拉 诺伯特;斯坎尼得尔 桑杰;斯坎尼得尔 瑞卡达;斯坎明 荷爵 |
| 分类号 |
G02B17/00(2006.01);G02B5/08(2006.01);G02B7/18(2006.01);G03F7/20(2006.01) |
主分类号 |
G02B17/00(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
李宗德 |
| 主权项 |
一种反射镜配置(1)，包含：一反射镜(2)，具有一基板(3)并且具有用于EUV辐射(9)的一反射涂层(4)，其中该基板(3)由具有一温度相依热膨胀系数的一材料所形成，在一第一体积区域(V1)内一第一零穿越温度(TZC1)上具有一零穿越，以及在至少一第二表面接近体积区域(V2、V2a-c)内与该第一零穿越温度不同的一第二零穿越温度(TZC2)上具有一第二零穿越，以及至少一热致动器(6a、6b、6c)，用于热致动该基板(3)的该第二体积区域(V2、V2a-c)。
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| 地址 |
德国 |
